湿电子化学品:纯度极高的特种化学试剂

发布时间:2023-12-14 阅读:8181


湿电子化学品属于电子化学品领域的一个分支,主要应用于微电子、光电子湿法制程中的各个环节,包括湿法蚀刻、清洗、显影及互联等,是电子信息行业中至关重要的基础化工原材料。湿法电子化学品,又被称为超净高纯试剂,是指其主体成分纯度高于99.9%,并且符合严格要求的杂质离子和微粒数的化学试剂。随着晶圆和面板尺寸的提升以及制程要求的不断提高,对湿法电子化学品的使用量和纯度要求呈现成倍增长的趋势。目前,SEMI标准将湿法电子化学品分为五个等级,分别为G1-G5,其中G4-G5等级可用于高端集成电路领域。






尽管湿法电子化学品在整个半导体制程中的占比仅约为4%,相较于硅片光刻胶等其他材料,其份额较小。然而,它在半导体制程中的作用非常重要,每一个环节都不可或缺。湿法电子化学品的工艺水平和产品质量直接影响到集成电路制造的成品率、电性能以及可靠性,从而进一步影响到终端产品的性能。湿法电子化学品主要用于集成电路、显示面板、光伏等领域产品的清洗、蚀刻等工艺环节。



根据组成成分和应用工艺的不同,湿电子化学品主要分为通用湿电子化学品和功能性湿电子化学品。

通用湿化学品主要以超净高纯溶剂为基础,是一类在湿法工艺中广泛使用的液体化学品。它们往往具备单一组分、单一功能的特点。常见的应用包括清洗、显影等工序。这些化学品主要分为几个类别,如下所述:
  1. 酸类:包括硫酸磷酸氢氟酸盐酸硝酸等。
  2. 碱类:例如氨水氢氧化钠氢氧化钾等。这些化学品常被用于调节酸碱平衡以及其他工艺需求。
  3. 有机溶剂类:包括甲醇乙醇异丙醇丙酮乙酸乙酯等。它们在湿法工艺中常被用作溶解、清洗或提取的溶剂。
  4. 其他类别:比如双氧水等。

功能性湿化学品是指为了满足制造工艺中的特殊需求,经过复配手段将单一的超净高纯试剂(或多种超净高纯试剂的配合)加入水、有机溶剂、螯合剂、表面活性剂等,从而达到特定的功能。这些化学品包括但不限于显影液、剥离液、蚀刻液、稀释液、清洗液等,在制造工艺中发挥着重要作用。



前衍相关产品




磷酸 7664-38-2

氢氟酸 7664-39-3

氨水 1336-21-6




氢氧化钠 1310-73-2

氢氧化钾 1310-58-3

甲醇 67-56-1




乙醇 64-17-5

异丙醇 67-63-0

乙酸乙酯 141-78-6



国内湿电子化学品供需形势十分旺盛,呈现快速增长的趋势,特别是高端产品的国产化仍有提升空间。根据2021年的数据,国内湿电子化学品下游消费主要集中在光伏(41.7%)、液晶显示(30.0%)、集成电路(21.5%)、分立器件及其他(6.8%)领域。2020年我国湿电子化学品的需求量为156万吨,预计到2025年,需求量将达到369.6万吨,复合增速达到18.8%。这表明湿电子化学品的市场潜力巨大,也凸显了国内高端产品生产自给自足的迫切需求。





湿电子化学品行业面临着较高的行业壁垒,这主要体现在技术、规模和资金、品牌与客户、产品品控以及行政许可等方面。这些壁垒使得海外龙头企业占据了主要份额。与半导体制造业的发展密切相关,湿电子化学品行业需要不断跟进半导体技术的发展趋势和需求,从而提供符合要求的产品。目前,欧美和日本企业凭借其技术优势,占据了全球市场的主导地位。

我国湿电子化学品产业结构性发展不均衡,在部分细分产品领域已经取得了较大的突破,而一些高端产品仍然需要进一步提高国产化率。根据中国电子材料行业协会数据,(1)集成电路领域:在2021年取得了明显的进展,我国湿电子化学品整体国产化率达到了35%,较2020年23%左右的国产化率有了显著提升。特别是在通用湿电子化学品领域取得了突破性进展。电子级氢氟酸、电子级硫酸、电子级磷酸等产品的国产化率明显增长。此外,在8英寸晶圆制造方面,电子级酸类产品已基本实现大批量供货,而在12英寸晶圆制造方面的应用也在稳步推进。然而,由于技术门槛较高,功能化学品在国内电子化学品企业与国际先进企业相比存在较大差距。目前,国内主要量产并形成供应的产品包括电镀液、硅刻蚀液、28nm以上技术节点用各类清洗剂以及少部分剥离液。(2)显示面板领域:在液晶面板和OLED领域,我国电子湿化学品的整体国产化率达到了40%,涵盖了各个世代的液晶面板和OLED所需的电子湿化学品。然而,仍有部分品种的电子湿化学品,尤其是OLED面板和大尺寸液晶面板所需的部分品种,目前仍受到韩国、日本和中国台湾地区等少数电子湿化学品厂商的垄断。(3)太阳能光伏领域:国内企业已基本具备电子湿化学品自主供应的能力。




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关键词:湿电子化学品 特种化学试剂 化学试剂

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